Избранное
ЭБ Нефть
и Газ
Главная
Оглавление
Поиск +
Еще книги ...
Энциклопедия
Помощь
Для просмотра
необходимо:


Книга: Главная » Паулинг Л.N. Природа химической связи
 
djvu / html
 

Эти последние структуры молекулы являются простейшим удовлетворительным ее описанием.
Рассматривая выше межатомное расстояние Si - С1, мы игнорировали возможное прямое влияние ионной структуры. Это, невидимому, оправдывается как опытом, поскольку связь С - F во фтористом метиле примерно на 43 % ионного характера и имеет нормальное расстояние, так и до некоторой степени теоретическими аргументами. Ионный радиус атома (гл. X) является гораздо менее постоянной величиной, чем его ковалентный радиус. Так, например, большие изменения наблюдаются при изменении координационного числа. Можно ожидать, что основную роль в определении равновесного расстояния для связей смешанного типа играет более точный ковалентный радиус.
Степень двоесвязности связей М - Хв молекулах MX зависит в основном от двух факторов: во-первых, от тенденции двух атомов образовывать двойные связи и, во-вторых, от тенденции связи М>-X становиться ионной и тем самым освобождать для образования двойной связи с другим атомом X одну из 5/.3-орбит атома М. Первый из этих факторов уменьшается при переходе от первого периода периодической таблицы ко второму и к последующим периодам. Атомы первого периода легко образуют кратные связи, атомы второго периода - лишь в отдельных случаях, а остальные атомы - очень редко. Из данных, собранных в табл. 34, видно, что оба фактора играют существенную роль.
В ряду Si, Ge, Sn с увеличивающейся электроотрицательностью и, следовательно, уменьшающейся степенью ионного характера в связи с хлором наблюдаемое укорочение межатомного расстояния уменьшается в результате действия первого фактора. В то же время в горизонтальных рядах, от Si к Р или от Се к As первый фактор постоянен, но укорочение уменьшается из-за второго фактора. Этому способствует также уменьшение числа участвующих частично ионных связей М - X. Интересной проверкой относительной роли этих двух факторов является рассмотрение межатомных расстояний в таком ряду молекул, как, например, SiCl4, SiHC.3, SiH2Cl2 и SiH3Cl. В этой последовательности влияние второго фактора должно уменьшаться примерно в отношении 3:2:1:0. Значения расстояния в этих веществах равны -2
2,00 0,02 А в SiCU; 2,01 0,03 А в SiHCli3; 2,02 0,03 А
в SiH2Cl2 и 2,06 0,05 А в SiH3Cl. Эти значения показывают, что в хлорсиланах второй фактор несколько менее существен, чем первый.
1 L. О. В г о с k w а у, J. Y. Beach, J. Am. Chem. Soc. 60, 1836 (1938).
2 L. О. В г о с k w а у, I. Е. Coop., Trans. Far. Soc. 34, 1429 (1938). 230

 

1 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100 110 120 130 140 150 160 170 180 190 200 210 220 230 231 232 233 234 235 236 237 238 239 240 250 260 270 280 290 300 310 320 330 340 350 360 370 380 390 400 410 420 430


Общая органическая химия, промышленные технологии - Сборники статей. Справочники